Al薄膜相关论文
由于化石燃料的储量有限以及燃料排放相关的环境问题,汽车行业正在朝轻量化方向发展,以减少燃料消耗。而镁合金的使用可以在满足汽......
用射频磁控溅射方法在有机柔性衬底上制备出好的附着性、低电阻率、高透射率ＺｎＯ：Ａｌ的透明导电膜，研究了薄膜的结构、电学和光学特性。......
钎焊是陶瓷与陶瓷和陶瓷与金属连接的最主要方式。由于大多数金属都不能直接润湿陶瓷,现有的钎焊技术都需要在陶瓷表面制备会降低......
氧化物陶瓷因其高硬度、耐高温、高耐磨等特性在现代工业中得到越来越多的应用。然而由于陶瓷加工困难常需将陶瓷进行连接,以进一......
用直流磁控溅射工艺,在NdFeB磁体表面镀Al薄膜,并对镀Al薄膜的磁体进行真空热处理,研究工艺、温度和时间对镀层成分、组织和性能的......
采用电弧离子镀技术在烧结钕铁硼表面沉积Al薄膜。利用表面轮廓仪、扫描电镜、激光共聚焦、电化学工作站和盐雾试验箱分析了负偏压......
薄膜的残余应力是影响MEMS器件工作可靠性和稳定性的重要因素,微旋转结构法能够简单有效地测量薄膜的残余应力.文中采用MEMS工艺制......
磁控溅射法在Si（111）基底上制备了纳米Al薄膜，用高度相关函数法对薄膜的原子力显微镜图像进行分形维计算，并用四点探针法测量了薄膜电......
采用多尺度准连续介质法分别模拟无缺陷和具有初始缺陷两种状态下，单晶Al薄膜纳米压痕初始塑性变形过程，得到载荷-位移响应曲线和应......
用前驱体分解法制备纳米MoS2微粒；并且以铝片为基底,制备了MoS2/Al薄膜,对MoS2/Al薄膜的I-V性能进行了研究.结果表明：以（NH4）6Mo7O24 &......
本文在25℃、相对湿度50％的条件下，分别蒸镀了Al，Al／Se薄膜，研究了它们在空气中的导电性能，试验结果表明，只需50s，Al薄膜的氧化反应已基本......
衬底温度在反应溅射制备ZnO：Al薄膜过程中是一个重要的工艺参数,直接决定这薄膜的性能。本文用中频脉冲磁控溅射方法,采用锌铝合金（A......
利用物理气相沉积设备制备了Al/ZnO∶Al薄膜样品,研究了该薄膜结构的发光特性。结果表明,在ZnO∶Al薄膜表面镀一层Al岛薄膜可以增......
采用电子束蒸发的方法在Si片上制备超导铝（Al）薄膜。利用X射线衍射和直流四电极电阻法分别测试了厚度从100埃到5000埃的Al薄膜物向组......
Al薄膜对硅的高刻蚀选择比使其成为硅深刻蚀过程中重要的掩蔽层材料。本文采用剥离法对Al薄膜进行图形化,得到了一组能够快速对Al......
烧结钕铁硼永磁体具有超强的磁力,在精密化和小型化器件领域具有独特的优势,但是易受腐蚀的缺点大大限制其应用范围,钕铁硼表面防......
为了提高烧结NdFeB磁体的耐腐蚀性能,采用真空蒸镀的方法在烧结NdFeB磁体表面沉积Al薄膜,并对工艺过程中的工艺参数进行优化。结果......
目的研究一种NdFeB永磁体表面腐蚀防护技术。方法采用磁控溅射技术,在烧结NdFeB永磁体表面沉积一层纯铝防护薄膜,然后对纯铝薄膜进......
铝作为一种绿色金属,且氧化铝的致密度极高,是一种理想的防腐材料。由于铝的电位远低于水中氢的电位,因此无法在水溶液体系中沉积......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
在本实验中我们利用电子束蒸发方法在玻璃衬底上制备了ZnO：Al透明导电膜，并对所得样品在400℃下进行了退火处理。利用扫描电子显微镜......
一、采用真空阴极电弧离子镀技术在1Crl7Ni2马氏体型不锈钢表面制备了Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜。采用SEM、划痕法、显微硬度分析法测试......
采用直流脉冲磁控溅射技术在15CrMnMoVA钢表面制备了纯Al薄膜。采用SEM、厚度干涉仪、电子拉伸试验机、XRD、测试分析了该薄膜的形......
学位
ZnO是一种具有良好光电性能的半导体材料,其在众多领域都有很广泛的应用前景。Al掺杂ZnO (AZO)透明导电薄膜,是ZnO领域的一个研究......
ZnO薄膜在c轴方向具有较低有效介电常数、较高机电耦合系数，但是声表面波波速较低；AlN薄膜虽然具有较高的声表面波速，但是介电常数和......
